RESEARCHER

image

นิธิ อัตถิ

ผู้ช่วยนักวิจัย

 
 

arrow E-mail : nithi.atthi@nectec.or.th

arrow Telephone : +66-38-857100 ext. 125

 

Roles and Responsibilities

กระบวนการสร้างลายวงจรบนแผ่นกระจกต้นแบบและกระบวนการถ่ายแบบลายวงจรสำหรับกระบวนการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ

 

Research Interests

กระบวนการสร้างลายวงจรบนแผ่นกระจกต้นแบบและกระบวนการถ่ายแบบลายวงจรสำหรับกระบวนการผลิตอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำและเครื่องจักรกลไฟฟ้าจุลภาค, โปรแกรมแบบจำลองสำหรับกระบวนการถ่ายแบบลายวงจร และกระบวนการสร้างลวดลายแบบ 3 มิติ; การวิเคราะห์คุณลักษณะของวัสดุด้วยเทคนิคไมโครสโคปี โดยใช้เทคนิคกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด, อีดีเอ๊กซ์ สเต๊ปโปรไฟเลอร์, การวัดปริมาณและขนาดฝุ่นละอองโดยใช้แสงเลเซอร์, อีลิปโซมิเตอร์, เครื่องวัดความต้านทานของผิวแผ่น, เครื่องวัดการส่องผ่านและการดูดกลืนแสง, โปรแกรมการวิเคราะห์ภาพ; พื้นผิวน้ำไม่เกาะแบบยิ่งยวดและพื้นผิวไม่ชอบน้ำ; กระบวนการผลิตหัวเขียน/อ่านข้อมูลสำหรับฮาร์ดดิสก์ไดรฟ์

 

Selected Publications

W. Jeamsaksiri, W. Bunjongpru, N. Atthi, K. Uprakoat, C. Hruanun and A. Poyai, “Truly CMOS Compatible Nitride Membrane ISFET Design, Fabrication, Testing, and Market Considerations”, Laos Journal on Applied Science (ICAS-2006), LAO, pp.578-583, (2006).

J. Jantawong, N. Atthi, S. Niemcharoen, K. Siangchaew, W. Jeamsaksiri, and A. Poyai. “The study on 3-D Microstructure Fabrication with Gray-scale lithography technique”, Ladkrabang Engineeering Journal 25 (2), pp.42-46, (2007).

N. Atthi, C. Aramphongphun, P. Yanpirat, P. Charnsetthikul, and W. Jeamsaksiri, “Study of Optimization Condition for Spin Coating of the Photoresist Film on 3 Inches Wafer by Taguchi Design of Experiment”, Khon kaen University Research Journal (KKU Res J (13) 3), Vol.13, April 2008, THAILAND, pp.347-352 (2008).

N. Atthi, J. Jantawong, W. Jeamsaksiri, C. Hru-anun, and A. Poyai, “3-Dimensionals Lithography Techniques for Air Bearing Surface Patterning in Hard-Disk Drive Reading/Writing Head Manufacturing”, Khon kaen University Research Journal (KKU Res J (13) 3), Vol.13, April 2008, THAILAND, pp.353-359 (2008).

N. Atthi, “Local Photomask Fabrication Capability to Support Hard-Disk Drive Manufacturing in Thailand”, Khon kaen University Research Journal (KKU Res J (13) 3), Vol.13, April 2008, THAILAND, pp.360-364 (2008).

N. Atthi, J. Jantawong, W. Jeamsaksiri, A. Pankiew, and A. Poyai, “Improvement Bar Sitting Process Step in Air Bearing Surface Patterning By using Micropallette”, Khon kaen University Research Journal (KKU Res J (13) 3), Vol.13, April 2008, THAILAND, pp.365-370 (2008).

N. Atthi, O. Nimittrakoolchai, W. Jeamsaksiri, and S. Supothina, “Chemical resistant improvement of natural rubber and nitride gloves by coating with hydrophobic film”, Advanced Materials Research, by Trans Tech Publications Ltd, Vol. 55-57, 2008, SWITZERLAND, pp.741-744 (2008).

N. Atthi, O. Nimittrakoolchai, W. Jeamsaksiri, S. Supothina, C. Hruanun, and A. Poyai, “Study of Optimization Condition for Spin Coating of the Photoresist Film on Rectangular Substrate by Taguchi Design of an Experiment”, Songklanakarin J. Sci. Technology., Vol., 2009, THAILAND, pp. (2009).

 

Patent pending applications

a.N. Atthi, J. Jantawong and K. Siangchaew, “Photoresist 3D structures formation by varying dosetechnique from a single light source” Thailand patent pending (Pending no. 0701001176), March 2007.

b.N. Atthi and J. Jantawong, “Multi-Film Thickness Mask, MFT-Mask”, Thailand patent (Pending no. 0701002029), April 2007.

c.N. Atthi and J. Jantawong, “Micropallette to holding Micro-workpieces by using Photolithography process”, Thailand patent (Pending no.0801002813), June 2008.

d.N. Atthi, S. Supothina, and O. Nimittrakoolchai. “Chemical-adhesive protective gloves”, Thailand patent (Pending no. 0801003347). June 2008.

e.N. Atthi, O.Trithaveesak, C. Hruanun, and A. Poyai, “Self-Forming Microlens by Using a Deflection of That Film”, Thailand patent (Pending no.0901001917), April 2009.

 

Post on 2009-06-11 | View 27199

OUR RESEARCH

OUR RESEARCH

High-dielectric constant AlON prepared by RF gas-timing sputtering for high capacitance density

Post on 2009-06-14

 

 

This paper presents the method to prepare and characterize high-dielectric constant aluminum oxynitride (AlON) formed by RF gas-timing sputtering. AlON layers of 725nm have been pr...

Details

 

Products

 

Services

 

Knowledge Center

 

Request Form