SUGGEST THIS SITE

 

 

ผู้ส่ง

ถึง


อีเมล

อีเมล

ชื่อ

ชื่อ

นามสกุล

นามสกุล

ข้อความ


รหัสป้องกัน

ป้อนรหัสที่คุณเห็นในรูป โปรดพิมพ์ตัวอักษรเล็ก-ใหญ่ให้ถูกต้อง

submit cancel

 

 

 

OUR RESEARCH

OUR RESEARCH

High-dielectric constant AlON prepared by RF gas-timing sputtering for high capacitance density

Post on 2009-06-14

 

 

This paper presents the method to prepare and characterize high-dielectric constant aluminum oxynitride (AlON) formed by RF gas-timing sputtering. AlON layers of 725nm have been pr...

Details

 

Products

 

Services

 

Knowledge Center

 

Request Form