Montree Saenlamool
Assistant Researcher
E-mail : montree.saenlamool@nectec.or.th
Telephone : +66 38 857-100 ext. 127
Roles and Responsibilities
Semiconductor power device structure and Fabrication process design , Implantation process and analysis doping characteristic engineer.
Research Interests
Semiconductor power device and Fabrication process design.
Selected Publications
มนตรี แสนละมูล การุณ แซ่จอก อัมพร โพธิ์ใย ภาวัน สยามชัย และ อิทธิ ฤทธาภรณ์. 2547. “เทคนิคการยิงฝังประจุปริมาณสารเจือสูงด้วยเครื่องยิงฝังประจุกระแสขนาดกลาง” การประชุมวิชาการทางวิศวกรรมไฟฟ้า ครั้งที่ 27, 11-12 พ.ย. 2547, Volume II หน้า 257-260.
มนตรี แสนละมูล การุณ แซ่จอก อนุชา เรืองพานิช โอภาส ตรีทวีศักดิ์ อัมพร โพธิ์ใย และ อิทธิ ฤทธาภรณ์. 2548. “การศึกษาคุณสมบัติในการยิงฝังโบรอนไดฟลูออไรด์ในกระบวนการสร้างซอสเดรนสำหรับ 0.8 mm CMOS.” หน้า 1081-1083. ใน การประชุมวิชาการทางวิศวกรรมไฟฟ้า ครั้งที่ 28. กรุงเทพฯ : คณะวิศวกรรมศาสตร์ มหาวิทยาลัยธรรมศาสตร์.
มนตรี แสนละมูล การุณ แซ่จอก นพพล พงษ์พันธุ์จันทรา กรรณิกา อุประโคตร โกวิท โซวสุวรรณ เจริญมิตร วรเดช อัมพร โพธิ์ใย และ อิทธิ ฤทธาภรณ์. 2548. “ศึกษาการยิงฝังประจุโบรอนอะตอมมิกส์นัมเบอร์ต่างๆ ของพลาสมา BF3 ต่อค่าความต้านทานเชิงผิว,” การประชุมวิชาการทางวิศว กรรมไฟฟ้า ครั้งที่ 28, 20-21 ต.ค. 2548, Volume II หน้า 1177-1180.
มนตรี แสนละมูล การุณ แซ่จอก ชาญเดช หรูอนันต์ อนุชา เรืองพาณิช และอัมพร โพธิ์ใย. 2549. “ความลึกในการเจือสารโบรอนโดยวิธียิงฝังประจุหลายครั้ง”, การประชุมวิชาการทางวิศวกรรมไฟฟ้าครั้งที่ 29, 09- 10 พ.ย. 2549, Volume II, หน้า 681-684.
มนตรี แสนละมูล การุณ แซ่จอก ชาญเดช หรูอนันต์ วิสุทธิ์ ฐิติรุ่งเรือง และ อัมพร โพธิ์ใย. 2550. “ความลึกในการเจือสารและความต้านทานเชิงแผ่น ในการยิงฝังประจุอาร์ซินิกส์เพื่อสร้างซอส-เดรน สำหรับซีมอสขนาดเกท 0.8 ไมครอน” การประชุมวิชาการทางวิศวกรรมไฟฟ้าครั้งที่ 30, 25-26 ต.ค. 2550, Volume II หน้า 945-948.
มนตรี แสนละมูล การุณ แซ่จอก ชาญเดช หรูอนันต์ วิสุทธิ์ ฐิติรุ่งเรือง และ อัมพร โพธิ์ใย. 2550. “การศึกษาค่าความต้านทานเชิงแผ่นและความลึกการเจือสาร ในการยิงฝังประจุโบรอนไอออนจากพลาสมา BF3” การประชุมวิชาการทางวิศวกรรมไฟฟ้าครั้งที่ 30, 25-26 ต.ค. 2550, Volume II หน้า 969-972.
Montree Saenlamool, Karoon Saejok, Charndet Hruanun, et. al. “FACTORS AFFECTING THE SHEET RESISTANCE OF POLYRESISTOR FOR SURFACE MICROMACHINING PRESSURE SENSORS” 8th National Grad Research Conference. 7-8 September 2007. Mahidol University, Salaya. pp. 119.
Amporn poyai, Anucha Ruangphanit, Karoon Saejok, Montree Saenlamool, Win Bunjongpru and Itti Rittaporn. “The Effect of Fabrication Techniques to the Threshold Voltage of Submicron CMOS Technology” Technology and Innovation for Sustainable Development Conference (TISD2006) Faculty of Engineering, Khon Kaen University, Thailand. 25-26 January 2006.
มนตรี แสนละมูล การุณ แซ่จอก สุวัฒน์ โสภิตพันธ์ ชาญเดช หรูอนันต์ และ อัมพร โพธิ์ใย. “กระบวนการเจือสารในอุปกรณ์สารกึ่งตัวนำ ด้วยเทคนิคการยิงฝังประจุไอออนสารเจือ” วารสารวิทยาศาสตร์บูรพา ปีที่ 13 (ฉบับที่ 2) กรกฎาคม-ธันวาคม 2551. หน้า 3-9
Post on 2009-06-11 | View 15462
OUR RESEARCH
An extreme change in structural and optical properties of indium oxynitride deposited by reactive gas-timing RF magnetro
The indium oxynitride (InON) films were achieved by reactive RF magnetron sputtering indium target which has the purity of 99.999% with a novel reactive gas-timing technique. The s...
